氮化铝吧 关注:58贴子:148
  • 3回复贴,共1

AlN为何可以应用于晶圆制造中

只看楼主收藏回复

AlN虽好,却有一个致命缺陷——它是一种极易吸收水分和氧的材料,一接触到水分和氧,就会水解氧化,失去其导热散热的性能特性。
而在晶圆制造中,AlN陶瓷最大的优势就在于它的导热散热的性能特性。这个难题制约了氮化铝在导热领域的发展。而且AlN超细粉末,在未经过表面处理和改性的情况下,很难与高分子材料混合均匀,这样就很难形成一个良好的导热通道、互穿网络。
氮化铝的水解过程:AlN+3H2O=Al(OH)3↓+NH3↑
显而易见,AlN想扛起导热填料主力军的大旗,首先要解决的就是它水解、氧化、难分散的问题。目前主流的方法是对粉体表面进行相应的物理吸附或化学处理,在AlN颗粒包覆或形成较薄反应层,阻止AlN粉末与水的水解反应。主要方法有包覆改性法、表面化学改性法、热处理法等等。

1.包覆改性法
包覆改性是一种应用时间较久的传统改性方法,是用无机化合物或有机化合物对AlN粉体表面进行包覆,对粒子的团聚起到减弱或屏蔽作用。用于包覆改性的改性剂有表面活性剂、无机物、超分散剂等。
①表面活性剂法:根据AlN粒子表面电荷的性质,采用加入阳离子或阴离子表面活性剂,改变粉体分散体系中气液、固液界面张力,在粉体表面形成碳氧链向外伸展的具有一定厚度的包覆层。
②无机包覆改性:AlN粉末无机表面改性就是将无机化合物或金属通过一定的手段在其表面沉积,形成包覆膜,或者形成核一壳复合颗粒,使改性粉体表面呈现出包覆材料的性质。
③超分散剂:超分散剂在两亲结构上与传统的表面活性剂类似,但以锚固基团和溶剂化链取代了表面活性剂的亲水基和亲油基。锚固基团能通过离子键、共价键、氢键及范德华力等相互作用以单点或多点锚固的形式牢固吸附于粒子表面,其溶剂化链则可以通过选用不同的聚合单体或改变共聚单体配比来调节它与分散介质的相容性。

2.表面化学改性
表面化学改性通过表面改性剂与颗粒表面进行化学反应或化学吸附的方式完成。将聚合物长链接枝在粉体表面。而聚合物中含亲水基团的长链通过水化伸展在水介质中起立体屏障作用,这样AlN粉体在介质中的分散稳定除了依靠静电斥力又依靠空间位阻。效果十分明显。
①偶联剂改性:偶联剂是一种同时具有能与无机粒子表面进行反应的极性基团和与有机物有反应性或相容性的有机官能团的化合物。它的作用是其一端能与粉体表面结合另一端可与分散介质有强的相互作用,因此可以提高AlN粉体与聚合物材料的亲和性,实现粉体在聚合物材料中的分散。
②疏水化处理:疏水化处理是选择有疏水化基团(如长链烷基、链烃基和环烷基等)的有机物围绕在AlN粉体表面,使烷基等牢固地结合在粉体的表面,呈现出较强的疏水性。
③表面接枝改性法表面接枝聚合是通过化学反应将高分子链接枝到AlN粉体的表面,可以显著改善粒子在有机溶剂或聚合物中的分散性。
④无机酸改性利用磷酸、磷酸二氢盐等对AlN粉末表面进行处理,发现不仅能够使AlN抗水解并且还能加强粉末的分散性。AlN悬浮液的值随时间的变化关系和AlN在水中的稳定性取决于所用的无机酸试剂。
3.热处理法及其他方法
热处理法则是通过对粉末进行热处理,使其表面发生氧化生成致密的氧化铝保护膜,从而产生抗水解性。
其它改性方法也比较多,例如通过高能处理、超声波、胶囊化改性等也可以对AlN粉体进行表面改性。通常这些方法同其它方法相结合,对粉体的表面改性效果更佳。


1楼2022-01-05 16:18回复
    我司萍乡禾田新材料有限公司专业生产高纯99.9,99.99氧化铝研磨球,联系电话:张曼玉18979926752


    IP属地:广东来自iPhone客户端2楼2022-05-20 14:25
    回复
      大家好
      总部位于韩国,我们TTS(Shenzhen)Technology Co.,ltd. 是半导体部件ALN Heater 排名前三的供应商- 。
      客户主要分布为 三星电子,东部高科,台积电 中芯国际等。
      为了业务拓展需要的同时将好产品分享给更多的客户,我们希望今与贵司一起展开合作。
      产品开发,改造,新品供应,旧品再生. 我司均可提供服务。
      我的VX 号 samkmc ,欢迎加我交流洽谈
      热销产品:ALN HEATER (陶瓷加热器 ): 0010-03840 ,0010-03843 ,0010-36734


      公司主要产品如下:
      Wafer
      DSP CARRIER-DLC COATED
      LAPPING CARRIER
      PIN SLEEVES
      Semi.
      ALN HEATER FOR CVD
      QUARTZ HEATER FOR DIFFUSION
      METAL HEATER FOR CVD
      ESC FOR DE
      Display
      DIFFUSER FOR CVD
      SUSCEPTOR FOR CVD
      ELECTRODE FOR DET
      ESC FOR DET
      PHOTO CHUCK FOR LITHO.


      3楼2022-06-29 09:48
      回复
        高纯氮化铝粉体,氧含量≤0.75%,碳含量≤320ppm,可提供样品,欢迎各位咨询了解


        IP属地:陕西4楼2024-05-24 09:26
        回复